产品介绍产品简介 真空紫外椭偏仪专为VUV 测量设计，整个系统处于真空状态，无氧气吸收。具备高度准确性；*的超快测量速度；快速样品室抽真空能力，方便快速更换样品；氮气消耗量少。 详情介绍 真空紫外椭偏仪 专为VUV 测量设计，整个系统处于真空状态，无氧气吸收。具备高度准确性；*的超快测量速度；快速样品室抽真空能力，方便快速更换样品；氮气消耗量少。 真空紫外椭偏仪 产品特点 50KHz 高频PEM 相位调制技术 45 秒内完成充氮气 2 分钟内完成样品室抽真空 8 分钟内完成光谱全谱范围内测量 两种工作模式：氮气清洗结合抽 真空、连续氮气清洗 光谱范围：147nm~850nm；147nm~2100nm 重点应用领域 超薄膜 157nm 光刻新材料 有机材料、高分子材料 高k 材料：HfO2、Al2O3、TiO2、HfxAlyOz 抗反射涂层 半导体和介电材料电子跃迁 MgF2、CaF2、LaF3 上一篇： 定制化光谱系统 下一篇： SLFA-60便携式X射线荧光硫分析仪
